超高真空與高真空閘閥區別

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超高真空和高真空閘閥是兩(liang) 種用於(yu) 控製真空度的設備，它們(men) 的主要區別在於(yu) 工作壓力範圍和泄漏率。

高真空閘閥工作環境可以是常壓或低於(yu) 常壓的環境。其泄漏率相對較低，可以在高真空環境下提供可靠的密封性能，通常用於(yu) 實驗室、光學鍍膜、半導體(ti) 加工等領域。

超高真空閘閥則可以控製更高的真空度範圍，更適用於(yu) 需要超高真空環境下的應用。超高真空閘閥需要在超高真空係統中工作，通常使用在電子束焊接、分析儀(yi) 器、核聚變研究等領域。超高真空閘閥的泄漏率也相對較低，以保證係統的高真空密封性能。

另外，超高真空閘閥的製造和使用也要比高真空閘閥更加複雜和嚴(yan) 格，因為(wei) 在超高真空環境下，即使微小的泄漏也可能會(hui) 對係統造成影響。超高真空閘閥通常采用特殊的材料和製造工藝，以確保其在超高真空環境下的穩定性和可靠性。

高真空閘閥

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